隨著芯片產業的快速發展,越來越多的企業開始重視集成電路的版圖設計。正是集成電路技術的不斷進步,使得計算機的體積越來越小,質量越來越輕,智能越來越優秀。因此,掌握IC版圖設計知識,熟悉IC版圖設計的司法保護策略,對這些企業來說是非常重要的。

集成電路版圖設計與“專利”或“版權”有很大區別。其價值主要體現在“實用功能”和“技術因素”上。實用性和進步性是保護的考慮因素,對原創性有更高的要求,“版權”不具備上述要求。同時,設計本質上是一種平面設計,具體是指工程中的平面設計,它不同于“外觀”所要求保護的內容;此外,它還表達了電子元器件的三維布局,因此不同于本實用新型所保護的內容。因為“發明”對創造力的要求很高,版圖設計一般很難滿足如此高的創造力要求,所以版圖設計也不同于“發明”專利。

由于布圖設計是一個獨立的知識產權客體,在**范圍內,絕大多數**都沒有通過《專利法》或《著作權法》對其進行保護,而是根據自身的獨到特點制定單行法律法規,并將其作為一個獨立的客體加以保護。自2001年10月1日起,我國開始實施布圖設計的專門法規,也就是說,從那時起,我國就通過了保護集成電路布圖設計的專門立法。

目前,我國有關布圖設計保護的法律法規主要包括:

《集成電路布圖設計保護條例》、《集成電路布圖設計保護條例實施細則》和《集成電路布圖設計行政執法辦法》。

我國實行登記制度,即創作完成后,創作人需要向**有關部門辦理登記手續,才能取得專有權。

知識產權中的“發明”和“實用新型”通過權利要求確定知識產權的保護范圍;“外觀”通過圖片或者照片展示的產品確定保護范圍。同樣,布局設計作為一種知識產權,也應該有明確的保護范圍,這也符合公共利益。根據有關規定,布圖設計的保護范圍應根據布圖設計授權文件中確定的立體配置確定。權利人申請登記時,需要提交“紙質圖紙”、“電子版圖紙”、“芯片樣品”等多種形式的材料。通過以上三種材料確定布圖設計的保護范圍。

原告“恩寶公司”與被告“智普新聯公司”發生糾紛時,原告登記專有權時,僅提交紙質圖紙和芯片樣品,未提交電子版圖紙。原告主張以芯片樣品中的面積為保護范圍,指控被告智普新聯公司侵犯其專有權。二審法院認為,原告在登記申請書中提交的圖紙僅含有兩層金屬層,且圖紙中無活性元素,且原告“未提交完整完整的圖紙”,故原告的申請資料存在瑕疵。雖然原告在申請注冊時提交了芯片樣品,但“無法根據樣品確定布圖設計專有權的保護范圍”,因為這樣會鼓勵布圖設計申請人變相只提交樣品,這違反了登記制度的初衷,因此二審法院駁回了原告的訴訟請求。該案后來再審,但再審法院認為,如果不考慮圖紙,直接通過樣品確定布圖設計的保護范圍,布圖設計登記制度中“公眾可以通過咨詢了解布圖設計內容”的條款,實際上是虛假的。因此,再審法院終裁定駁回原告(翁寶公司)的再審請求。

復制侵權包括完全復制侵權和部分復制侵權。

在我國司法實踐中,目前的主要觀點是:侵權產品不需要與侵權產品完全一致。侵權產品復制侵權產品的核心部分的,侵權成立。

我國有關保護條例規定:以“商業利用”為目的,通過“銷售”、“進口”等方式提供布圖設計相關材料或產品的行為屬于侵權行為。在實踐中,與“復制侵權”的認定相比,一般更容易認定“商業使用侵權”。

對這類知識產權侵權行為的救濟有兩種方式:一種是“行政”救濟,另一種是“司法”救濟。

根據我國有關法律法規,爭議發生后,可以通過雙方協商解決。協商不成的,可以提請國務院有關行政部門處理。

《保護條例》為權利人提供了司法救濟。

現行保護條例主要規定了兩種責任:一是“停止侵權”責任,二是“損失賠償”責任。

其中,賠償損失中的賠償額一般是“被告侵權人取得的利益”,也可以是“被侵權人遭受的損失”。其中,“遭受的損失”包括被侵權人在停止侵權過程中支付的合理費用。

中國的相關規定明確規定,對于“獨立+獨立”的設計,如果設計與現有設計相同,那么當事人的使用不構成侵權。

“逆向工程”是指通過一定的技術手段,對產品的工作原理進行逆向推導,從而開發出產品的過程。逆向工程對布局設計的態度不僅在中國,在大多數**也是如此。

根據我國相關法律,為了教學、科研等非營利目的進行“復制設計”,不需要征得專利權人的同意,也不需要向專利權人支付報酬。這項規定平衡了“債權人”和“公眾”之間的利益。

“強制許可”的非侵權抗辯,是指**有關部門未經專有權人許可,可以直接授權他人使用該設計。

目前,我國芯片產業正處于高速發展時期。加強對“集成電路版圖設計”的保護,可以保障芯片企業的發展,從而鼓勵更多的芯片企業大膽創新,進而在“核心時代”展現實力。